氮氣露點(diǎn)儀在設計中所需要考慮的因素分析

 　　氮氣露點(diǎn)儀是在低露點(diǎn)且需要控制干點(diǎn)的工業(yè)環(huán)境中的理想選擇，其傳感器采用高分子薄膜電容式原理在全量程測量可靠，并具有長(cháng)期穩定性，不受灰塵粒子和大多數化學(xué)物污染的影響，適合工業(yè)環(huán)境的使用。

 

　　氮氣露點(diǎn)儀的設計中要著(zhù)重考慮直接影響結露過(guò)程熱質(zhì)交換的各種因素，這個(gè)原則同樣適用于自動(dòng)化程度不太高的露點(diǎn)儀器操作條件的選擇。下面咱們主要來(lái)討論鏡面降溫速度和樣氣流速問(wèn)題：

 

　　1、被測氣體的溫度通常都是室溫。因此當氣流通過(guò)露點(diǎn)室時(shí)必然要影響體系的傳熱和傳質(zhì)過(guò)程。當其它條件固定時(shí)，加大流速將有利于氣流和鏡面之間的傳質(zhì)。特別是在進(jìn)行低霜點(diǎn)測量時(shí)，流速應適當提高，以加快露層形成速度，但是流速不能太大，否則會(huì )造成過(guò)熱問(wèn)題。這對制冷功率比較小的熱電制冷露點(diǎn)儀尤為明顯。流速太大還會(huì )導致露點(diǎn)室壓力降低而流速的改變又將影響體系的熱平衡。所以在露點(diǎn)測量中選擇適當的流速是必要的，流速的選擇應視制冷方法和露點(diǎn)室的結構而定。一般的流速范圍在0.4~0.7L﹒min-1之間。為了減小傳熱的影響，可考慮在被測氣體進(jìn)入露點(diǎn)室之前進(jìn)行預冷處理。

 

　　2、在露點(diǎn)測量中鏡面降溫速度的控制是一個(gè)重要問(wèn)題，對于一方面是由設計決定的，另一方面則是操作中的問(wèn)題。因為冷源的冷卻點(diǎn)、測溫點(diǎn)和鏡面間的熱傳導有一個(gè)過(guò)程并存在一定的溫度梯度。所以熱慣性將影響結露(霜)的過(guò)程和速度，給測量結果帶來(lái)誤差。這種情況又隨使用的測溫元件不同而異，例如由于結構關(guān)系，鉑電阻感溫元件的測量點(diǎn)與鏡面之間的溫度梯度比較大，熱傳導速度也比較慢，從而使測溫和結露不能同步進(jìn)行，而且導致露層的厚度無(wú)法控制，這對目視檢露來(lái)說(shuō)將產(chǎn)生負誤差。